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电子半导体用超纯水设备
创联净化品牌 CL-3T/h超纯水设备
产品简介  
详细说明  
微电子、电池工业用水
Pure water for Micro-electronics, batteries industrial
应用领域和指标要求参考
Reference of applications areas and indexes required
用途Applications
用水指标Water Indicators
参考标准Reference standard
单晶硅、多晶硅、太阳能电池、氧化铝坩埚、光伏玻璃等生产
Monocrystalline silicon, polycrystalline silicon, solar cells, alumina crucible, photovoltaic glass, and other production
电阻率15 ~18.25 MΩ.CM
Resitivity 15 ~18.25 MΩ.CM
我国电子级水质技术指标,GB11446-1-1997
The water quality of China's electronic-grade technical indicators GB11446-1-1997
美国半导体工业用纯水指标
The industrial pure water indicators of U.S. semiconductor 
单晶硅半导体集成电路块,显像管、玻壳、液晶显示器等制造工业
Monocrystalline silicon semiconductor chips, tubes, glass, liquid crystal displays and other manufacturing industries
电阻率15 ~18.25 MΩ.CM
Resitivity 15 ~18.25 MΩ.CM
美国半导体工业用纯水指标
The industrial pure water indicators of U.S. semiconductor
我国电子级水质技术指标,GB11446-1-1997
Chinese electronic-grade  water quality technical specifications  GB11446-1-1997
 
光学材料清洗用水、电子陶瓷行业用纯水、尖端磁性材料用纯水
Pure water for optical materials, electronic ceramics and cutting-edge magnetic materials
电阻率 10 ~17 MΩ.CM
Resitivity 10 ~17 MΩ.CM
我国电子级水质技术指标,GB11446-1-1997
Chinese electronic-grade  water quality technical specifications  GB11446-1-1997
美国半导体工业用纯水指标
The industrial pure water indicators of U.S. semiconductor
蓄电池、锂电池、锌锰电池生产
Batteries, lithium batteries, zinc-manganese battery production
电阻率5 ~10 MΩ.CM
Resitivity 5 ~10 MΩ.CM
我国电子级水质技术指标,GB11446-1-1997
Chinese electronic-grade  water quality technical specifications  GB11446-1-1997
有色金属、贵金属冶炼用水、纳米级新材料生产用水、航空新材料生产用水、ITO导电玻璃制造用水、电子级无尘布生产用水
Pure water for non-ferrous metals, precious metals smelting, nano-scale production of new materials, aviation and production of new materials, ITO conductive glass, production of electronic-grade for dust-free cloth
电阻率15 ~18.25 MΩ.CM
Resitivity 15 ~18.25 MΩ.CM
我国电子级水质技术指标,GB11446-1-1997
Chinese electronic-grade  water quality technical specifications  GB11446-1-1997
 
美国半导体工业用纯水指标
The industrial pure water indicators of U.S. semiconductor
    
主要工艺流程和出水指标:
Main technical process and standard of output water
※ 预处理+反渗透+离子交换器(电阻率≥15MΩ.CM
   Pre-treatment+ stage reverse osmosis system+ion exchange (electric conductivity15MΩ.CM
※ 预处理+二级反渗透+EDI(电阻率≥15MΩ.CM
   Pre-treatment+ stage reverse osmosis system+EDI (electric conductivity15MΩ.CM
※ 预处理+二级反渗透+脱气膜+EDI +抛光混床(电阻率≥18.25MΩ.CM
   Pre-treatment+ double stage reverse osmosis system+air film+EDI +polishing mixed bed (electric conductivity18.25MΩ.CM
 
详细工艺需根据原水设计情况进行设计
      Details of the design process should be carried out according to the feed water quality.
 
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